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物理所在光激發(fā)VO2超快電子相變和結(jié)構(gòu)相變的動(dòng)力學(xué)解耦研究中取得進(jìn)展

軍工資源網(wǎng) 2023年01月17日

  二氧化釩(VO2)是一種典型的強(qiáng)關(guān)聯(lián)材料。在溫度約為340K時(shí),VO2會(huì)經(jīng)歷從絕緣性單斜相(M1-VO2)到金屬性金紅石相(R-VO2)的一級(jí)相變過程。強(qiáng)關(guān)聯(lián)材料中電荷、晶格、軌道和自旋等自由度強(qiáng)烈地耦合在一起,這使得VO2絕緣體-金屬相變存在多種相變機(jī)制。超快激光脈沖通過激發(fā)固體材料的價(jià)電子可以快速改變?cè)拥膭?shì)能面,因此激光輻射已經(jīng)成為一種誘導(dǎo)強(qiáng)關(guān)聯(lián)材料相變的有效途徑,比如激光輻射可以使M1-VO2在500fs內(nèi)發(fā)生非熱的結(jié)構(gòu)相變。但是實(shí)驗(yàn)上通常很難直接同時(shí)觀測(cè)結(jié)構(gòu)相變和絕緣體-金屬相變中的超快原子和電子動(dòng)力學(xué),因此對(duì)于VO2的超快結(jié)構(gòu)相變和絕緣體-金屬相變的相變機(jī)制,以及兩種相變能否脫耦仍然存在巨大爭(zhēng)議。

  近日,中國科學(xué)院物理研究所/北京凝聚態(tài)物理國家研究中心表面物理國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室研究人員利用自主開發(fā)的激發(fā)態(tài)動(dòng)力學(xué)模擬軟件TDAP,研究了激光誘導(dǎo)M1-VO2R-VO2的超快結(jié)構(gòu)相變和絕緣體-金屬相變,揭示了超快尺度上的非平衡相變機(jī)制。激發(fā)態(tài)動(dòng)力學(xué)模擬可以追蹤光誘導(dǎo)VO2結(jié)構(gòu)相變和絕緣體-金屬相變的超快過程,直接證明飛秒尺度上兩種相變的解耦合行為。

  在這種動(dòng)力學(xué)過程中,激光將M1-VO2 d||帶上的價(jià)電子激發(fā)到導(dǎo)帶上,d||帶上產(chǎn)生的空穴可以引起V-V對(duì)的擴(kuò)張和V-V-V扭轉(zhuǎn)角的增加,從而驅(qū)動(dòng)M1-VO2R-VO2的結(jié)構(gòu)相變(圖1、圖2)。計(jì)算模擬得到的結(jié)構(gòu)相變速率與激發(fā)強(qiáng)度的依賴關(guān)系,與超快實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)符合得很好。基于雜化密度泛函的激發(fā)態(tài)動(dòng)力學(xué)模擬證明了在M1-VO2構(gòu)型下可以出現(xiàn)等同結(jié)構(gòu)的絕緣體-金屬相變(圖3)。M1-VO2中的空穴會(huì)引起間隙能級(jí)在帶隙中的填充,從而引起帶隙的消失。更高強(qiáng)度的光激發(fā)可以引起d||帶的明顯上移。模擬得到的結(jié)構(gòu)相變和絕緣體-金屬相變的激發(fā)閾值基本上是相同的,而結(jié)構(gòu)相變和電子相變存在著數(shù)百飛秒的時(shí)間延遲,這導(dǎo)致了金屬型M1-VO2瞬態(tài)和等同結(jié)構(gòu)電子相變的出現(xiàn)(圖4)。

  該工作揭示了VO2超快結(jié)構(gòu)相變和絕緣體-金屬相變過程中不同的超快機(jī)制,澄清了以往對(duì)于VO2是否存在等同原子結(jié)構(gòu)的電子相變的爭(zhēng)議,并提供了研究強(qiáng)關(guān)聯(lián)材料非平衡動(dòng)力學(xué)的新方法。

  相關(guān)成果近期發(fā)表在Science Advances上。研究工作受到國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金委和中科院的資助。

  論文鏈接

 

  圖1 VO2原子結(jié)構(gòu)圖和光激發(fā)電子躍遷過程。(A)低溫絕緣型M1-VO2和(B)高溫金屬型R-VO2的原子結(jié)構(gòu)圖。釩原子和氧原子分別以綠色和橙色顯示。(C)脈沖電場(chǎng)強(qiáng)度E0為0.20 V/的800nm激光脈沖,以及其激發(fā)M1-VO2中的光生空穴密度隨時(shí)間的演變。(D)光激發(fā)有效空穴密度與激光脈沖電場(chǎng)強(qiáng)度E0的關(guān)系。

 

  圖2 光激發(fā)M1-VO2R-VO2相變?cè)觿?dòng)力學(xué)。(A)不同激發(fā)強(qiáng)度下V-V長鍵和V-V短鍵平均長度的時(shí)間演變。(B)不同激發(fā)強(qiáng)度下平均V-V-V扭曲角的時(shí)間演化。(C)0.64 e/f.u激發(fā)強(qiáng)度下的差分電荷密度圖。黃色區(qū)域?qū)?yīng)于電子增加,青色區(qū)域?qū)?yīng)于電子減少。(D)光激發(fā)結(jié)構(gòu)相變時(shí)間常數(shù)與實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的比較。

 

  圖3 光激發(fā)M1-VO2的電子動(dòng)力學(xué)。(A)不同激發(fā)強(qiáng)度下M1-VO2的電子態(tài)密度。(B)雜化泛函非絕熱模擬中電子激發(fā)量的演化。在E0=0.14 V/下t= 20 fs(C)和t = 40 fs(D)時(shí)的電子占據(jù)和態(tài)密度。

 

  圖4 光誘導(dǎo)M1-VO2超快相變示意圖。初始的絕緣相M1-VO2(t = -100 fs)在t = 0 fs時(shí)被激光脈沖激發(fā)。光激發(fā)誘導(dǎo)M1-VO2發(fā)生等同原子結(jié)構(gòu)的絕緣體-金屬相變(10 fs內(nèi)),而結(jié)構(gòu)相變?cè)?00至300 fs的時(shí)間尺度內(nèi)發(fā)生。

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